化学量論ターゲットを使ったその場焼なましプロセスでの超伝導MgB<sub>2</sub>膜のレーザ支援成長

SHIM Seung Hwan; SHIM Kwang Bo; YOON Jong-Won; KAWAGUCHI Kenji; KOSHIZAKI Naoto

文献

J-GLOBAL ID：200902209322503588 整理番号：05A0841828

化学量論ターゲットを使ったその場焼なましプロセスでの超伝導MgB₂膜のレーザ支援成長

Laser-Assisted Growth of Superconducting MgB₂ Films in an In Situ Annealing Process Using a Stoichiometric Target

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=05A0841828&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0841828&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0253A") }}

著者 (5件)：

SHIM Seung Hwan

SHIM Seung Hwan について

名寄せID(JGPN) 200901100352320130 ですべてを検索
「SHIM Seung Hwan」ですべてを検索

(Hanyang Univ., Seoul, KOR)

Hanyang Univ., Seoul, KOR について

名寄せID(JGON) 201551000097265891 ですべてを検索
「Hanyang Univ., Seoul, KOR」ですべてを検索

SHIM Kwang Bo

SHIM Kwang Bo について

名寄せID(JGPN) 201550000159249991 ですべてを検索
「SHIM Kwang Bo」ですべてを検索

(Hanyang Univ., Seoul, KOR)

Hanyang Univ., Seoul, KOR について

名寄せID(JGON) 201551000097265891 ですべてを検索
「Hanyang Univ., Seoul, KOR」ですべてを検索

YOON Jong-Won

YOON Jong-Won について

名寄せID(JGPN) 200901100516102660 ですべてを検索
「YOON Jong-Won」ですべてを検索

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

KAWAGUCHI Kenji

KAWAGUCHI Kenji について

名寄せID(JGPN) 200901100477578570 ですべてを検索
「KAWAGUCHI Kenji」ですべてを検索
研究者情報を見る

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

KOSHIZAKI Naoto

KOSHIZAKI Naoto について

名寄せID(JGPN) 200901100540195903 ですべてを検索
「KOSHIZAKI Naoto」ですべてを検索
研究者情報を見る

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

名寄せID(JGON) 202251000174437891 ですべてを検索
「National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN」ですべてを検索
機関情報を見る

資料名：

Journal of the American Ceramic Society (Journal of the American Ceramic Society)

Journal of the American Ceramic Society について

JST資料番号 C0253A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る

巻： 88 号： 9 ページ： 2385-2390 発行年： 2005年09月
JST資料番号： C0253A ISSN： 0002-7820 CODEN： JACTAW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

抄録/ポイント：

抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

その場2段階プロセス,特に,高温焼なましが続く低温堆積,を使...

シソーラス用語：

シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

*超伝導薄膜

超伝導薄膜について

「超伝導薄膜」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

,...
準シソーラス用語：

超伝導膜

超伝導膜について

「超伝導膜」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0841828&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0253A") }}

分類 (2件)：

分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです

その他の無機化合物の薄膜

(BK14060A)

その他の無機化合物の薄膜について

分類コード BK14060A で文献を検索
分類コード4桁 BK14 で文献を検索

, 超伝導材料

(BM04041W)

超伝導材料について

分類コード BM04041W で文献を検索
分類コード4桁 BM04 で文献を検索

タイトルに関連する用語 (9件)：

タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

化学量論

化学量論について

「化学量論」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

ターゲット

ターゲットについて

「ターゲット」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

焼なまし

焼なましについて

「焼なまし」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

プロセス

プロセスについて

「プロセス」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

伝導

伝導について

「伝導」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

MgB2

MgB2 について

「MgB2」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

レーザ

レーザについて

「レーザ」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

支援

支援について

「支援」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

成長

成長について

「成長」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

前のページに戻る

化学量論ターゲットを使ったその場焼なましプロセスでの超伝導MgB2膜のレーザ支援成長

化学量論ターゲットを使ったその場焼なましプロセスでの超伝導MgB₂膜のレーザ支援成長