文献

J-GLOBAL ID：200902209589866400   整理番号：08A0242908

非線形方法で側鎖からアミノ基を生成する新しい塩基感受性高分子とその光画像材料への応用

Novel base-sensitive polymers generating amino groups from their side chains in a nonlinear manner and their application to photoimaging materials

著者 (4件)： IGARASHI Akira (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., Gunma, JPN) ,  ARIMITSU Koji (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  SEKI Takahiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ICHIMURA Kunihiro (Toho Univ., Chiba, JPN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 18  号： 5  ページ： 560-566  発行年： 2008年02月07日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光塩基発生剤(PBG),塩基感受性高分子,及び自触媒作用により分解しアミン分子を放出して塩基感受性高分子の塩基触媒反応を増加させる,塩基アンプリファイアで構成される高分子について報告した。高分子は9-フルオレンメタノールとメタクリル酸2-イソシアナトエチルを反応させて得た単量体をラジカル重合させて生成した。この高分子はPBGで増感されるとUV照射とその後の熱処理により自触媒作用で分解するので,塩基増殖反応は高分子の構造によらない。通常の化学的に増幅したフォトレジストより光感度が著しく高い。光感受性高分子を低分子量塩基アンプリファイアと結合させた場合と比較すると,この塩基アンプリファイアを含む高分子は空気伝染を防ぐこともできる。

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  アミノ基 ,  塩基 ,  感受性 ,  *光塩基発生剤 ,  自触媒作用 ,  重合体 ,  ラジカル重合 ,  紫外線照射 ,  熱処理

分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (2件)： メタクリル酸2-イソシアナトエチル ,  9H-フルオレン-9-メタノール

タイトルに関連する用語 (7件)： 非線形 ,  側鎖 ,  アミノ基 ,  塩基 ,  感受性 ,  高分子 ,  応用