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J-GLOBAL ID：200902209818730878   整理番号：07A1190524

ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術 AD法におけるプラズマ援用効果

著者 (2件)： 森正和 (龍谷大 理工) ,  明渡純 (産業技術総合研)
資料名： Materials Integration  (Materials Integration)
巻： 20  号： 12  ページ： 22-26  発行年： 2007年11月25日 
JST資料番号： L0595A  ISSN： 1344-7858  CODEN： MINTFB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： エアロゾルデポジション(AD)法で形成した誘電体膜の誘電特性...

シソーラス用語： *エレクトロセラミック ,...
準シソーラス用語： PZT【鉛化合物】 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子セラミックス ,  低温 ,  集積化 ,  AD ,  プラズマ ,  援用