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J-GLOBAL ID：200902211755396233   整理番号：04A0692577

EPL用高性能メンブレンマスクの開発 (III)-極薄メンブレンの開発-

著者 (6件)： 雨宮勲 (HOYA) ,  山下浩 (半導体先端テクノロジーズ) ,  谷口和丈 (HOYA) ,  中塚栄 (HOYA) ,  木村生 (HOYA) ,  流川治 (HOYA)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 65th  号： 2  ページ： 628  発行年： 2004年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： メンブレンマスク

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： EPL ,  メンブレン ,  マスク ,  開発