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J-GLOBAL ID:200902211782451165   整理番号:08A0485640

ナノ構造を利用した表面支援レーザー脱離イオン化質量分析法

著者 (2件):
資料名:
号:ページ: 230-235  発行年: 2008年05月05日 
JST資料番号: S0128B  ISSN: 0386-2178  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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有機マトリックスを用いないレーザ脱離イオン化法として,ナノ構造表面とナノ粒子を利用した表面支援レーザ脱離イオン化質量分析法(SALDI-MS)について紹介した。ナノ構造表面として,ポーラスシリコン粉末とポーラスシリカゲル,エッチングされたシリコンとグラファイト表面,また金あるいは白金蒸着した規則性細孔構造を持つ多孔アルミナ基板などを用いたSALDI-MSについて説明した。また,ナノ粒子として,カーボンナノチューブ,シリコンナノ粒子,および金ナノ粒子を担持した基板を用いたSALDI-MSについて説明した。
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