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J-GLOBAL ID:200902212357843579   整理番号:09A1263132

「顕微鏡法による材料開発のための微細構造研究最前線(9)」-先端顕微鏡法開発がもたらす材料科学の新たな展開-(a)プローブ・光学系の高度化による新展開 回折顕微法による原子配列構造の可視化-制限視野回折図形からのSiダンベル構造再生-

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資料名:
巻: 48  号: 12  ページ: 604  発行年: 2009年12月01日 
JST資料番号: F0163A  ISSN: 1340-2625  CODEN: MTERE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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制限視野絞りの電子線遮蔽領域を拘束条件に用いることにより,手法の汎用性を大きく改善した。また,平行照射によるビーム干渉性の増大により,高精度の再構成を達成した。ナノ領域を選択するための極小サイズの制限視野絞りをFIBにて作製した。真空領域とシリコン結晶薄膜をそれぞれ選択した際のTEM像を示した。収差補正TEMを用い,対物レンズの球面収差に起因する領域選択誤差は回避できた。シリコン結晶の〈011〉回折図形を元に試料下面波動場を再生した。絞り穴の内部にシリコン結晶の原子配列構造が明瞭に再生され,ダンベル構造の間隔0.136nmが十分に分離した。回折顕微法を用いて個々の原子列を明確に再現した例であり,局所ナノ構造を原子レベルで結像する新しい手法である。
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  顕微鏡法 
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