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J-GLOBAL ID：200902213975674750   整理番号：05A0934584

使用可能横スケールを設計するための微分レーザ干渉計を有するAFMを用いたサブ100ナノメートルピッチ測定

Sub-hundred nanometre pitch measurements using an AFM with differential laser interferometers for designing usable lateral scales

著者 (12件)： MISUMI Ichiko (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  GONDA Satoshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  HUANG Qiangxian (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  KEEM Taeho (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  KUROSAWA Tomizo (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  FUJII Akihiro (Olympus Corp., Tokyo, JPN) ,  HISATA Nahoko (Olympus Corp., Tokyo, JPN) ,  YAMAGISHI Takeshi (Olympus Corp., Tokyo, JPN) ,  FUJIMOTO Hirohisa (Olympus Corp., Tokyo, JPN) ,  ENJOJI Ken (Olympus Systems Corp., Tokyo, JPN) ,  AYA Sunao (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  SUMITANI Hiroaki (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名： Measurement Science and Technology  (Measurement Science and Technology)
巻： 16  号： 10  ページ： 2080-2090  発行年： 2005年10月 
JST資料番号： C0354C  ISSN： 0957-0233  CODEN： MSTCEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微分レーザ干渉計をもつ新しいAFM(DLI-AFM)を開発し...

シソーラス用語： *ピッチ【機械要素】 ,...

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分類 (2件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (6件)： スケール ,  設計 ,  微分 ,  レーザ干渉計 ,  AFM ,  サブ