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J-GLOBAL ID：200902214654325326   整理番号：05A0568727

Philips社のアルファツールの統合型極端紫外光源

Integrating Philips’ extreme UV source in the alpha-tools

著者 (9件)： PANKERT Joseph (Philips Extreme UV GmbH, Aachen, DEU) ,  APETZ Rolf (Philips Extreme UV GmbH, Aachen, DEU) ,  BERGMANN Klaus (Fraunhofer Inst. Lasertechnik, Aachen, DEU) ,  DERRA Guenther (Philips Res. Lab., Aachen, DEU) ,  JANSSEN Maurice (Philips Extreme UV GmbH, Aachen, DEU) ,  KLEIN Juergen (Fraunhofer Inst. Lasertechnik, Aachen, DEU) ,  KRUECKEN Thomas (Philips Res. Lab., Aachen, DEU) ,  METZMACHER Christof (Philips Res. Lab., Aachen, DEU) ,  NEFF Willi (Fraunhofer Inst. Lasertechnik, Aachen, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 5751  号： Pt.1  ページ： 260-271  発行年： 2005年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Philips社のSnターゲットに基づく極端紫外線(EUV)...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (3件)： ツール ,  統合 ,  極端紫外光源