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J-GLOBAL ID：200902215003053146   整理番号：08A0710532

リソグラフィーのMix and Matchオーバレイを最適化するためのシステム

A System to Optimize Mix and Match Overlay in Lithography

著者 (7件)： WAKAMOTO Shinji (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  ISHII Yuuki (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  YASUKAWA Koji (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  MAEJIMA Shinroku (Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN) ,  KATO Atsuhiko (KLA-Tencor Japan Ltd. (Japan), Kanagawa, JPN) ,  ROBINSON John C. (KLA-Tencor Corp., CA, USA) ,  CHOI Dong-Sub (KLA-Tencor Korea Co., Ltd, Kunggi Prov, KOR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6922  号： Pt.2  ページ： 69222V.1-69222V.11  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パターンの寸法が小さくなるにつれオーバレイの許容量が年毎に小さくなっている。Mix and Match(M&M)誤差は視野内歪因子と視野間格子因子からなる。M&M制御におけるオーバレイ誤差を縮小することにより,ロットのディスパッチング計画が柔軟になり露光装置の利用率が向上する。本論文ではM&Mオーバレイを最適化する装置を示した。まず,M&Mデータベースの作成手順を示し,次に製造における前露光M&Mの手順を示した。この装置を用いて最適化実験を行い結果を示した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  半導体プロセス ,  回路パターン形成 ,  データベース ,  最適化 ,  予防保全 ,  パターンマッチング ,  ウエハ【IC】 ,  *歪補正 ,  *露光装置 ,  改変 ,  保全

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  オーバレイ ,  最適化