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J-GLOBAL ID：200902215150554100   整理番号：09A1048601

XPSによるガラス表面汚れ成分の分析

著者 (2件)： 稲野浩行 (北海道工試) ,  青木央 (函館地域産業振興財団)
資料名： 北海道立工業試験場報告  (Reports of the Hokkaido Industrial Research Institute)
号： 308  ページ： 131-135  発行年： 2009年08月31日 
JST資料番号： F0674A  ISSN： 0441-7402  CODEN： HOKSA9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 未処理のガラス表面と汚れたガラス表面をX線光電子分光分析法で比較し,可能な評価を紹介した。スライドグラスと意図的に汚れをつけたスライドグラス,水中ゴーグルの新品と海で使用したものを用いた。ガラスそのまま,指紋及び洗剤をつけたものは,汚れの原因とXPSスペクトルを関係づけることができた。また,ゴーグルでは汚れたものは海水や汗の水分との接触で表面からNaなどが消失し,海水や汗由来の汚れが付着していることがわかった。XPSで検出可能な光電子は最表面から数nm程度のため,表面の汚れや劣化状態を,高感度に分析できることがわかった。逆にワイドスペクトル分析では清浄なガラス表面と比較することで,汚れや表面劣化を推定できる。汚れの原因究明,汚れや劣化対策,表面設計などに役立つ情報が得られる。

シソーラス用語： *ガラス ,  *X線光電子分光法 ,  *汚染 ,  保護眼鏡 ,  指紋 ,  洗剤 ,  海水 ,  汗 ,  劣化 ,  スペクトル ,  *表面汚染
準シソーラス用語： 表面劣化 ,  内殻スペクトル ,  ワイドスペクトル

分類 (3件)： 分光法と分光計一般  (BD07041Q) ,  その他の物理分析  (CC03014E) ,  試料技術  (BA02070O)

引用文献 (6件)：

• 日本表面科学会編: 表面分析技術選書 X線光電子分光法, 丸善, 232PP.,(1998)
• Moulder J. F. et al.: Handbook of X-ray photoelectron spectroscopy 2^nd ed., Perkin-Elmer Corporation,(1992)
• NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database: http://srdata.nist.gov/xps/
• 松本修治他: アルカリケイ酸塩ガラスのX線光電子スペクトル, 日本セラミックス協会学術論文誌, Vol.106 No.4, pp. 415-421,(1998)
• Nanba T. et al.: Consideration on the Correlation between Basicity of Oxide Glasses and O 1s Chemical Shift in XPS, Journal of the Ceramic Society of Japan, Vol.113 No.1, pp. 44-50,(2005)

タイトルに関連する用語 (4件)： XPS ,  ガラス ,  汚れ成分 ,  分析