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J-GLOBAL ID：200902215845469669   整理番号：06A0237789

無電解メタライゼーションを含む2段階プロセスによるDNAテンプレーテッド銅ナノ細線製作

DNA-Templated Copper Nanowire Fabrication by a Two-Step Process Involving Electroless Metallization

著者 (2件)： KUDO Hidetoshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUJIHIRA Masamichi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： IEEE Transactions on Nanotechnology  (IEEE Transactions on Nanotechnology)
巻： 5  号： 2  ページ： 90-92  発行年： 2006年03月 
JST資料番号： W1355A  ISSN： 1536-125X  CODEN： ITNECU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トップダウンリソグラフィー,すなわちフォトリソグラフィーによ...

シソーラス用語： 細線 ,...
準シソーラス用語： *ナノ細線 ,...

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  遺伝子の複製  (EC02030F) ,  無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (8件)： 電解 ,  メタライゼーション ,  2段階プロセス ,  DNA ,  テン ,  銅 ,  ナノ細線 ,  製作