ポジ及びネガ調のポリメタクリル酸メチルパターン作製用の172nm真空紫外光を採用した簡単なリソグラフィー法

ASAKURA S.; HOZUMI A.; YAMAGUCHI T.; FUWA A.

文献

J-GLOBAL ID：200902215892637618 整理番号：06A0098371

ポジ及びネガ調のポリメタクリル酸メチルパターン作製用の172nm真空紫外光を採用した簡単なリソグラフィー法

A simple lithographic method employing 172 nm vacuum ultraviolet light to prepare positive- and negative-tone poly(methyl methacrylate) patterns

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Thin Solid Films (Thin Solid Films)

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巻： 500 号： 1-2 ページ： 237-240 発行年： 2006年04月03日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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