高密度プラズマ蒸発により作製した酸化インジウムモリブデン膜の電気的及び光学的特性に及ぼす酸素含有量の効果

SUN S-Y; HUANG J-L; LII D-F

文献

J-GLOBAL ID：200902215977106425 整理番号：04A0641771

高密度プラズマ蒸発により作製した酸化インジウムモリブデン膜の電気的及び光学的特性に及ぼす酸素含有量の効果

Effects of oxygen contents on the electrical and optical properties of indium molybdenum oxide films fabricated by high density plasma evaporation

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巻： 22 号： 4 ページ： 1235-1241 発行年： 2004年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

透明導電性の酸化インジウムモリブデン(IMO)膜を,In<s...

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酸化物薄膜 , 半導体結晶の電気伝導 , 光物性一般

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