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J-GLOBAL ID:200902216275951913   整理番号:09A0720268

c面GaN基板上の510~515nm InGaNに基づく緑色レーザダイオード

510-515 nm InGaN-Based Green Laser Diodes on c-Plane GaN Substrate
著者 (7件):
資料名:
巻:号:ページ: 062201.1-062201.3  発行年: 2009年06月25日 
JST資料番号: F0599C  ISSN: 1882-0778  CODEN: APEPC4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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レーザダイオード(LD)の構造とエピタキシャル層の成長条件を改善し,連続波下で515μm波長を有するInGaN系緑色LDの開発に成功した。LD構造は通常のc面自立GaN基板上に有機金属化学気相成長法(MOCVD)により成長させた。515nmにおける閾値電流と閾値電圧はそれぞれ53mAと5.2Vであった。25°Cにおいて光出力パワー5mWで連続波動作する510~515nmLDの寿命は>5000時間と推定した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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半導体レーザ 
引用文献 (7件):
  • KOZAKI, T. Proc. SPIE. 2006, 6133, 613306
  • GAINES, J. M. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2462
  • HAASE, M. A. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2315
  • OKAMOTO, K. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 071105
  • QUEREN, D. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 081119
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