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J-GLOBAL ID：200902217369808215   整理番号：05A1021055

リソグラフィーによるエピタクシーNb膜の輸送臨界電流密度の増大

Enhancement of transport critical current density of epitaxial Nb film by lithography

著者 (6件)： YAMADA H. (Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN) ,  HARADA N. (Dep. of Electrical and Electronics Engineering, Fac. of Engineering, Yamaguchi Univ., 2-16-1 Tokiwadai, Ube 755-8611 ...) ,  KANAYAMA K. (Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN) ,  NAKAGAWA S. (Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN) ,  YAMASAKI H. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Center 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  HAMAJIMA T. (Tohoku Univ., 1-1 Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名： Physica C. Superconductivity and Its Applications  (Physica C. Superconductivity and Its Applications)
巻： 433  号： 1-2  ページ： 65-69  発行年： 2005年12月01日 
JST資料番号： T0580A  ISSN： 0921-4534  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： リソグラフィー ,  エピタクシー ,  Nb ,  輸送 ,  臨界電流密度