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J-GLOBAL ID：200902217792770496   整理番号：09A0978157

タンタルアノード酸化皮膜の低電圧化成時の結晶化

著者 (4件)： 小宮山正造 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  泉知夫 (キャボットスーパーメタル) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集  (電気化学合同秋季大会講演要旨集)
巻： 2009  ページ： 254  発行年： 2009年09月10日 
JST資料番号： X0038A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電解コンデンサ ,  *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  酸化タンタル ,  *陽極酸化処理 ,  誘電体薄膜 ,  結晶化 ,  *熱酸化 ,  静電容量 ,  すれすれ入射 ,  X線回折 ,  透過型電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  表面粗さ ,  電流分布 ,  熱処理 ,  陽極酸化皮膜 ,  低電圧 ,  *化成皮膜
準シソーラス用語： 陽極化成

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： タンタル ,  アノード酸化皮膜 ,  低電圧 ,  結晶化