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J-GLOBAL ID：200902217916847433   整理番号：09A0367096

Al,Siを添加したTiN_x系超硬質薄膜における耐酸化性と硬さに関する研究

著者 (6件)： 高橋浩輔 (青山学院大) ,  清野豊 (産業技術総合研) ,  服部浩一郎 (産業技術総合研) ,  岡伸人 (青山学院大) ,  佐藤泰史 (青山学院大) ,  重里有三 (青山学院大)
資料名： 日本電子材料技術協会秋期講演大会講演概要集
巻： 45th  ページ： 22  発行年： 2008年 
JST資料番号： Y0049A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： アルミニウム ,  ケイ素 ,  *超薄膜 ,  硬質 ,  耐酸化性 ,  *チタン化合物 ,  窒化物 ,  焼なまし ,  定性分析 ,  *窒化チタン
準シソーラス用語： Al ,  Si ,  アニール

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Al ,  Si ,  硬質薄膜 ,  耐酸化性 ,  硬さ ,  研究