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J-GLOBAL ID:200902218205280500   整理番号:06A0742178

スパッタリングによるB-C-N膜の蒸着とその機械的特性

Deposition of B-C-N films by Sputtering and their Mechanical Properties
著者 (5件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 693-696  発行年: 2006年09月 
JST資料番号: L4468A  ISSN: 1382-3469  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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高硬度のB-C-N膜のスパッタ製膜と機械的性質について報告し...
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分類 (2件):
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セラミック・陶磁器の製造  ,  その他の無機化合物の薄膜 
引用文献 (11件):
  • S. Miyake, J Vac. Soc. Japan, 47, 811-819(2004).
  • S. Miyake and M. Wang, Jap. I Appl. Phys, 43, 3566-3571(2004).
  • S. Nkao, J. Choi, S. Miyagawa, M. Ikeyama and K. Tsugawa, Transactions of the M. K S. Jap., 30, 785-788(2005).
  • H. Yasui, Y. Hirose, K. Awazu and M. Iwaki, Colloids and Surfaces B, 19, 291-295(2000).
  • S. Watanabe, S. Miyake and M Murakawa, New Diamond and Frontier Carbon Technology, 14, 341-349(2004).
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