高密度低イオンエネルギーマイクロ波プラズマによって成膜した微結晶シリコンの構造特性へのパワー密度の影響

ZHONG Chuan Jie; TANAKA Hiroaki; SUGAWA Shigetoshi; OHMI Tadahiro

文献

J-GLOBAL ID：200902220199222815 整理番号：05A0910754

高密度低イオンエネルギーマイクロ波プラズマによって成膜した微結晶シリコンの構造特性へのパワー密度の影響

Effect of power density on the structure properties of microcrystalline silicon film prepared by high-density low-ion-energy microwave plasma

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ZHONG Chuan Jie

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巻： 493 号： 1-2 ページ： 54-59 発行年： 2005年12月22日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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