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J-GLOBAL ID：200902220372867118   整理番号：03A0486583

Al₂O₃上に形成されたAlF₃の熱脱着の挙動

Thermal Desorption Behavior of AlF₃ Formed on Al₂O₃

著者 (7件)： WATANABE M (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  IIDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKIYAMA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIKAWA T (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAKAI H (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAWABE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SHOBATAKE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 42  号： 6B  ページ： L680-L682  発行年： 2003年06月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 試料温度T_s=300~930Kでの標題...

シソーラス用語： *フッ化アルミニウム ,...

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分類 (1件)： 固-気界面一般  (CB12041H)

引用文献 (14件)：

• 1) S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagaharma, I. Naruhito, T. Matsushita and T. Mukai: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 22.
• 2) S. Nakamura: J. Cryst. Growth 201/202 (1999) 290.
• 3) V. M. Bermudez: Appl. Surf. Sci. 119 (1997) 147.
• 4) S. J. Pearton, C. R. Abernathy and F. Ren: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 3643.
• 5) R. J. Shul, C. G. Willson, M. M. Bridges, J. Han, J. W. Lee, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, J. D. Mackenzie, S. M. Donovan, L. Zhang and L. F. Lester: J. Vac. Sci & Technol. <B>A16</B> (1998) 1621.

タイトルに関連する用語 (4件)： Al2O3 ,  AlF3 ,  熱脱着 ,  挙動