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J-GLOBAL ID：200902220623004998   整理番号：08A0735357

走査プローブ顕微鏡を用いた厳密なピッチ計測のための普遍的設計構造

Universal Designed Structures for Strict Pitch Measurements Using Scanning Probe Microscopes

著者 (5件)： SUGAWARA K. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  SATO O. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  YOSHIZAKI K. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  MISUMI I. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  GONDA S. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 381/382  ページ： 605-606  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザ干渉計を持つ原子間力顕微鏡を用いた正確なピッチ測定のため,新しい二次元格子を設計した。円形と八角形パターンの二次元格子2種類について実験で比較を行った。これらの格子パターンのピッチを調べたところ,ピッチが0.1nm以下のばらつきがあった。そこで不確かさ要因の一つであるフィルタリングパラメータを減らした。二次元格子としては八角形パターンが最も好ましいと思われる。

シソーラス用語： マイクロプローブ ,  *走査型プローブ顕微鏡 ,  レーザ応用 ,  *干渉計 ,  *パターン形成 ,  フィルタリング ,  格子 ,  *顕微鏡観察 ,  原子間力顕微鏡 ,  *格子形成 ,  二次元 ,  間隔 ,  *長さ測定 ,  *レーザ干渉計
準シソーラス用語： *原子間力顕微鏡法 ,  二次元格子

分類 (2件)： 光学的測定とその装置一般  (BD07010S) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 走査プローブ顕微鏡 ,  ピッチ ,  計測 ,  設計