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J-GLOBAL ID:200902220723829609   整理番号:09A0236050

X線リソグラフィーによる高アスペクト比X線回折格子の製作

Fabrication of High Aspect Ratio X-ray Grating Using X-ray Lithography
著者 (6件):
資料名:
巻:号:ページ: 416-423 (J-STAGE)  発行年: 2009年 
JST資料番号: U0026A  ISSN: 1880-9871  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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X線撮影画像手法は各種分野で使用されている。しかしながら,同手法は生物軟組織などの吸光度の低いサンプルの鮮明なX線画像を得るには十分ではない。この問題を解決するために,著者らは,X線位相画像のX線Talbot干渉計を用いた方法を提案した。このX線Talbot干渉計では,X線回折格子は微細で高精度,かつ高アスペクト比構造を持つことが要求された。次いで,X線リソグラフィー手法を用いて,ピッチ5.3μm,高さ30μmの高アスペクト比X線回折格子を開発し成功した。著者らは,X線回折格が医学で実際に使われる画像サイズを得るために大きな効果的面積をもつよう検討した。現在の研究で著者らは,60mm×60mmの大きな効果的面積を伴うX線回折格子を製作した。そしてX線Talbot干渉計を使ってマウスの胸と腹のX線位相断層撮影を行った。結果として,軟部組織および高密度生体組織の観察に成功した。視野を一層広げるために,5.3μm未満のピッチと100mm四方の一層大きい面積を持つX線回折格子を製作しようとした。この結果は,X線Talbot干渉計が新しい単純な位相敏感X線撮影法であることを示した。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
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X線回折法 
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