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J-GLOBAL ID：200902221179965095   整理番号：08A0943627

熱酸化および化学溶液処理により形成したGeO₂/Ge(100)界面の光電子分光分析

著者 (7件)： 村上秀樹 (広大 大学院) ,  三浦真嗣 (広大 大学院) ,  小埜芳和 (広大 大学院) ,  大田晃生 (広大 大学院) ,  要垣内亮 (広大 大学院) ,  東清一郎 (広大 大学院) ,  宮崎誠一 (広大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 714  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ゲルマニウム ,  *酸化ゲルマニウム ,  熱酸化 ,  湿式酸化 ,  過酸化水素 ,  焼なまし ,  *界面 ,  表面構造 ,  *X線光電子スペクトル ,  化学結合 ,  欠陥準位 ,  状態密度 ,  熱脱着 ,  誘電体薄膜 ,  半導体
準シソーラス用語： 界面構造

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 熱酸化 ,  化学 ,  溶液処理 ,  Ge ,  界面 ,  光電子分光分析