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J-GLOBAL ID：200902222132430416   整理番号：06A0806204

放射光を利用した界面および局所構造解析 1 表面X線散乱法による電極/溶液界面のその場構造追跡

著者 (2件)： 田村和久 (日本原子力研究開発機構) ,  水木純一郎 (日本原子力研究開発機構)
資料名： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
巻： 74  号： 10  ページ： 828-833  発行年： 2006年10月05日 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 放射光X線を利用する表面X線散乱(SXS)法では電極/溶液界...

シソーラス用語： シンクロトロン放射 ,...
準シソーラス用語： 陰極還元 ,...

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分類 (2件)： 電極過程  (CB07040U) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

引用文献 (19件)：

• 1) M. F. Toney, Synchrotron Techniques in Interfacial Electrochemistry (Eds. C. A. Melendress and A. Tadjeddine), Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, 109 (1994).
• 2) I. K. Robinson, Phys. Rev. B: Condens. Matter, 33, 3830 (1986).
• 3) B. M. Ocko and J. Wang, Synchrotron Techniques in Interfacial Electrochemistry (Eds. C. A. Melendress and A. Tadjeddine), Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, 127 (1994).
• 4) J. Als-Nielsen and D. McMorrow, <i>Elements of Modern X-Ray Physics</i>, John Wiley & Sons, New York (2001).
• 5) M. Takahasi, Electrochemistry, 72, 128 (2004).

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  界面 ,  局所構造 ,  解析 ,  X線散乱 ,  溶液界面 ,  追跡