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J-GLOBAL ID：200902223969608350   整理番号：06A0073340

レーザ支援CVDによるY₂O₃膜の高速堆積

High Speed Deposition of Y₂O₃ Films by Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition

著者 (3件)： BANAL Ryan (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KIMURA Teiichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  GOTO Takashi (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 46  号： 9  ページ： 2114-2116  発行年： 2005年09月20日 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Y(dpm)₃(dpm=dipival...

シソーラス用語： *レーザCVD ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： ジピバロイルメタン

引用文献 (9件)：

• 1) R. N. Sharma, S. T. Lakshmikumar and A. C. Rastogi: Thin Solid Films 199 (1991) 1–8.
• 2) N. Imaishi, T. Sato, M. Kimura and Y. Akiyama: J. Cryst. Growth 180 (1997) 680–690.
• 3) V. V. Bakovets, T. M. Levashova, V. T. Ratushnyak and L. F. Bakhturova: Inorg. Mater. 38 (2002) 371–373.
• 4) Y. Akiyama, T. Sato and I. Nobuyuki: J. Cryst. Growth 147 (1995) 130–146.
• 5) S. Shanmugham, M. Hendrick, N. Richards and M. Oljaca: J. Mater. Sci. 39 (2004) 377–381.

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ ,  支援 ,  CVD ,  Y2O3 ,  堆積