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J-GLOBAL ID：200902224315497938   整理番号：07A1149936

酸化-還元プロセスによって製造した表面多孔質銅基板上の液体ビスマスの異常なぬれ

Unusual Wetting of Liquid Bismuth on a Surface-Porous Copper Substrate Fabricated by Oxidation-Reduction Process

著者 (4件)： TAKAHIRA Nobuyuki (Divison of Materials and Manufacturing Sci., Osaka Univ.) ,  YOSHIKAWA Takeshi (Divison of Materials and Manufacturing Sci., Osaka Univ.) ,  TANAKA Toshihiro (Divison of Materials and Manufacturing Sci., Osaka Univ.) ,  HOLAPPA Lauri (Lab. of Metallurgy, Helsinki Univ. of Technol.)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 48  号： 12  ページ： 3126-3131 (J-STAGE)  発行年： 2007年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面多孔質銅上の液体ビスマスの異常なぬれ現象を調べた。多孔質...

シソーラス用語： *ビスマス ,...

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分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  その他の物理的・機械的性質  (WB02040F)

引用文献 (13件)：

• 1) N. Takahira, T. Tanaka, S. Hara and J. Lee: Mater. Trans. 46 (2005) 3008–3014.
• 2) H.-W. Miao, J.-G. Duh and B.-S. Chiou: J. Mater. Sci. 11 (2000) 609–618.
• 3) I. Mori, M. Tadauchi and M. Mukai: Toshiba Review 56 (2001) 24–28.
• 4) M. Miyazaki, E. Takida and S. Ogata: Oki Technical Review 73 (2006) 42–45.
• 5) W. J. Boettinger, C. A. Handwerker, B. Newbury, T. Y. Pan and J. M. Nicholson: Journal of ELECTRONIC MATERIALS 31 (2002) 545–550.

タイトルに関連する用語 (7件)： 酸化 ,  還元 ,  プロセス ,  多孔質 ,  銅基板 ,  ビスマス ,  ぬれ