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J-GLOBAL ID：200902224692970842   整理番号：09A0009024

アモルファスAl_nSi_1-nO_x薄膜におけるプロトン伝導率の膜厚依存性

Thickness dependence of proton conductivity of amorphous Al_nSi_1-nO_x thin film

著者 (3件)： 青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  国武豊喜 (ナノメンブレン)
資料名： 固体イオニクス討論会講演要旨集  (Extended Abstracts. Symposium on Solid State Ionics in Japan)
巻： 34th  ページ： 57-58  発行年： 2008年12月03日 
JST資料番号： L1398A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 固体電解質燃料電池 ,  固体電解質 ,  *酸化アルミニウム ,  *酸化ケイ素 ,  *プロトン伝導 ,  ゾル-ゲル法 ,  スピンコーティング ,  薄膜成長 ,  セラミック膜 ,  クラスタ形成 ,  エレクトロセラミック ,  Broensted酸 ,  加水分解 ,  パーコレーション ,  インピーダンススペクトル ,  アルミノケイ酸ガラス

分類 (3件)： 燃料電池  (YB04040V) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (4件)： アモルファス ,  薄膜 ,  プロトン伝導率 ,  膜厚依存性