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J-GLOBAL ID:200902225988751328   整理番号:03A0512662

低価格の銅ジアルキルアミノ-2-プロポキシドから純銅薄膜の有機金属CVDに関する研究 配位子のわずかな変化による前駆体の熱的特性の調整

A Study on the Metal-Organic CVD of Pure Copper Films from Low Cost Copper(II) Dialkylamino-2-propoxides: Tuning the Thermal Properties of the Precursor by Small Variations of the Ligand
著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 149-156  発行年: 2003年06月 
JST資料番号: W0908A  ISSN: 0948-1907  CODEN: CVDEFX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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分類 (1件):
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金属薄膜 

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