高密度プラズマを用いて超高速の10nm/sで微結晶シリコン膜の調製

文献

J-GLOBAL ID：200902226063416754 整理番号：04A0511808

Preparation of microcrystalline silicon films at ultra high-rate of 10 nm/s using high-density plasma

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資料名：
巻： 338/340 ページ： 42-46 発行年： 2004年06月15日
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

陰極表面の近くに均一に水平に分布した安定な高密度プラズマスポ...

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薄膜成長技術・装置 , 塩

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