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J-GLOBAL ID：200902226869998770   整理番号：03A0535718

原料源蒸気のイオン化を備えたCVD反応器中のナノ粒子生成メカニズム

Nanoparticle formation mechanism in CVD reactor with ionization of source vapor.

著者 (3件)： ADACHI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUKUI S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKUYAMA K (Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
資料名： Journal of Nanoparticle Research  (Journal of Nanoparticle Research)
巻： 5  号： 1/2  ページ： 31-37  発行年： 2003年04月 
JST資料番号： W1361A  ISSN： 1388-0764  CODEN： JNARFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)は金属,半導体,磁性材料のナノ粒子を生成す...

シソーラス用語： イオン化 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： オルトけい酸テトラエチル

タイトルに関連する用語 (7件)： 原料 ,  蒸気 ,  イオン化 ,  CVD ,  反応器 ,  ナノ粒子 ,  生成メカニズム