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J-GLOBAL ID：200902227464193754   整理番号：04A0097705

基板バイアスによるRF熱プラズマダイヤモンド蒸着の監視と制御

Monitoring and control of RF thermal plasma diamond deposition via substrate biasing

著者 (3件)： OBERSTE BERGHAUS J (McGill Univ., Montreal, CAN) ,  MEUNIER J-L (McGill Univ., Montreal, CAN) ,  GITZHOFER F (Univ. Sherbrooke, CAN)
資料名： Measurement Science and Technology  (Measurement Science and Technology)
巻： 15  号： 1  ページ： 161-164  発行年： 2004年01月 
JST資料番号： C0354C  ISSN： 0957-0233  CODEN： MSTCEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高周波誘導放電熱プラズマを用いたCVDでのダイヤモンド薄膜作...

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 基板バイアス ,  RF ,  熱プラズマ ,  ダイヤモンド ,  蒸着