極薄Co-SiO<sub>2</sub>グラニュラー膜におけるトンネル磁気抵抗

HONDA S; YAMAMOTO Y

文献

J-GLOBAL ID：200902228078545308 整理番号：03A0411404

極薄Co-SiO₂グラニュラー膜におけるトンネル磁気抵抗

Tunneling magnetoresistance in ultrathin Co-SiO₂ granular films

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=03A0411404&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0411404&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 93 号： 10,Pt.3 ページ： 7936-7938 発行年： 2003年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標記グラニュラー膜のトンネル巨大磁気抵抗(MR)特性を測定し...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0411404&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}

金属-絶縁体-金属構造 , 酸化物薄膜

, , ,

前のページに戻る

極薄Co-SiO2グラニュラー膜におけるトンネル磁気抵抗

極薄Co-SiO₂グラニュラー膜におけるトンネル磁気抵抗