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J-GLOBAL ID：200902228083366241   整理番号：05A0001465

シンクロトロンX線平面波による超大規模集積ウエハのシリコン表面トポグラフの観察

Observation of silicon front surface topographs of an ultralarge-scale-integrated wafer by synchrotron x-ray plane wave

著者 (6件)： SUZUKI Y (Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN) ,  TSUKASAKI Y (Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN) ,  KAJIWARA K (Japan Synchrotron Res. Inst., Hyogo, JPN) ,  KAWADO S (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  IIDA S (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  CHIKAURA Y (Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 96  号： 11  ページ： 6259-6261  発行年： 2004年12月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siウエハの表面粗さとうねりはULSIにとって重要な問題であ...

シソーラス用語： 半導体 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (7件)： シンクロトロン ,  X線 ,  平面波 ,  大規模集積 ,  ウエハ ,  シリコン ,  観察