低い基板温度のスパッタ蒸着によるCr2O3テンプレート上のα-Al2O3薄膜の局所的エピタキシャル成長

JIN P; NAKAO S; WANG S X; WANG L M

文献

J-GLOBAL ID：200902228353478527 整理番号：03A0140245

低い基板温度のスパッタ蒸着によるCr₂O₃テンプレート上のα-Al₂O₃薄膜の局所的エピタキシャル成長

Localized epitaxial growth of α-Al₂O₃ thin films on Cr₂O₃ template by sputter deposition at low substrate temperature.

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巻： 82 号： 7 ページ： 1024-1026 発行年： 2003年02月17日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

5%以下の格子不整合でα-Al2O<s...

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酸化物薄膜

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