45nmノード用の新しい投影光学系と収差制御システム

YOSHIHARA Toshiyuki; TAKESHITA Bunsuke; SHIGENOBU Atsushi; HASEGAWA Yasuo; OHSAKI Yoshinori; MISHIMA Kazuhiko; MIURA Seiya

文献

J-GLOBAL ID：200902228968553715 整理番号：07A0731287

45nmノード用の新しい投影光学系と収差制御システム

New projection optics and aberration control system for the 45-nm node

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資料名：
巻： 6520 号： Pt.2 ページ： 652022.1-652022.8 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

65nmノードのArFドライ露光システムの高NAレンズと45...

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固体デバイス製造技術一般 , 光の像形成

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