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J-GLOBAL ID:200902230390138730   整理番号:09A0165070

450nmのInGaN発光ダイオード構造における電子溢れの測定

Measurement of electron overflow in 450 nm InGaN light-emitting diode structures
著者 (5件):
資料名:
巻: 94  号:ページ: 061116  発行年: 2009年02月09日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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典型的バイアス条件下の発光ダイオード(LED)の電子溢れの存在を測定するための試験構造を開発した。試験構造は電子遮断層のp型側上に挿入した余分のMgドープ量子井戸を有する標準のLED構造からなる。活性領域から逃散する電子は余分な量子井戸中で再結合し,対応する光子放出が観測された。低電流密度では電子溢れは観測されなかった。効率が低下する中間の電流密度では溢れが観測され,電流密度増加と共に増大した。電子溢れは効率低下開始よりも低い電流密度で開始した。従来の溢れ機構に加えて,Auger過程の副産物であるAuger支援溢れを考えた。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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発光素子 
タイトルに関連する用語 (4件):
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