空中映像計測技術を使用した193nm液浸および偏光リソグラフィー用マスク開発のスピードアップ

ZIBOLD Axel M.; HARNISCH W.; SCHERUEBL T.; ROSENKRANZ N.; GREIF J.

文献

J-GLOBAL ID：200902230943261412 整理番号：05A0422101

空中映像計測技術を使用した193nm液浸および偏光リソグラフィー用マスク開発のスピードアップ

Using the aerial image measurement technique to speed up mask development for 193nm immersion and polarization lithography

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資料名：
巻： 5645 ページ： 223-232 発行年： 2005年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

193nmリソグラフィーエミュレーションに,空中イメージ測定...

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固体デバイス製造技術一般

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