文献

J-GLOBAL ID：200902231252573848   整理番号：06A0500310

ニッケルを用いた超合金ダイヤフラム上に作製した窒化アルミニウム薄膜の圧力へのピエゾ電気応答

Piezoelectric Response to Pressure of Aluminum Nitride Thin Films Prepared on Nickel-Based Superalloy Diaphragms

著者 (7件)： OHSHIMA Ichiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  AKIYAMA Morito (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  KAKAMI Akira (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  TABARU Tatsuo (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  KAMOHARA Toshihiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  OOISHI Yasunobu (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN) ,  NOMA Hiroaki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Saga, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 6A  ページ： 5169-5173  発行年： 2006年06月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： rfマグネトロンスパッタリングによりInconel 600超...

シソーラス用語： *圧電体 ,...
準シソーラス用語： *圧力依存性

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分類 (1件)： 圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M)

引用文献 (20件)：

• S. Uda, S. Q. Wang, N. Konishi, H. Inaba and J. Harada: J. Cryst. Growth 275(2005)251.
• R. C. Turner, P. A. Fuierer, R. E. Newnham and T. R. Shrout: Appl. Acoust.41(1994)299.
• G. A. Slack and T. F. McNelly: J. Cryst. Growth 34(1976)263.
• T. Matsumura and Y. Tanabe: J. Phys. Soc. Jpn.15(1960)203.
• T. Shiosaki, M. Adachi and A. Kawabata: Thin Solid Films 96(1982)129.

タイトルに関連する用語 (8件)： ニッケル ,  超合金 ,  ダイヤフラム ,  作製 ,  窒化アルミニウム ,  薄膜 ,  ピエゾ電気 ,  応答