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J-GLOBAL ID：200902231324337796   整理番号：08A0710393

軸外照明の効果を与えるためのパターン特定マスク格子の設計

Design of pattern-specific mask grating for giving the effect of an off-axis illumination

著者 (10件)： KIM Young-Seok (INHA Univ., Incheon, KOR) ,  SONG Seok Ho (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Jong Ung (Cheongju Univ., Chungbuk, KOR) ,  OH Sung Hyun (Hynix Semiconductor Inc., Chungbuk, KOR) ,  CHOI Yong Kyoo (Hynix Semiconductor Inc., Chungbuk, KOR) ,  KIM Munsik (Hynix Semiconductor Inc., Chungbuk, KOR) ,  O Beom-Hoan (INHA Univ., Incheon, KOR) ,  PARK Se-Geun (INHA Univ., Incheon, KOR) ,  LEE El-Hang (INHA Univ., Incheon, KOR) ,  LEE Seung Gol (INHA Univ., Incheon, KOR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6792  ページ： 67920R.1-67920R.10  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パターン特定軸外照明の実現可能性を実証するために,マスクプレートの頂部に形成されるマスク格子を用いた照明方法を評価した。マスク格子の最適構造を,マスクパターンそのものの局所構造から決定できた。いくつかのデフォーカスに関する三種のパターンの空中画像をシミュレートすることにより,この方法の有効性を,プロセス許容範囲を示すBossung曲線でチェックし,軸外照明法と比較した。この方法が軸外照明のそれと同じ効果をマスクに与えることができることを確認した。空中画像に及ぼすマスク格子境界の効果も議論した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *フォトマスク ,  照明 ,  計算機シミュレーション ,  境界 ,  *回折格子 ,  パターン形成
準シソーラス用語： 最小加工寸法 ,  軸外照明 ,  *マスク格子 ,  空中画像 ,  環状照明

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 照明 ,  マスク ,  格子 ,  設計