先進ゲートスタック用のジルコニウム酸ハフニウムゲート絶縁体

HEGDE R. I.; TRIYOSO D. H.; SAMAVEDAM S. B.; WHITE B. E.

文献

J-GLOBAL ID：200902231804124636 整理番号：07A0367043

先進ゲートスタック用のジルコニウム酸ハフニウムゲート絶縁体

Hafnium zirconate gate dielectric for advanced gate stack applications

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巻： 101 号： 7 ページ： 074113-074113-7 発行年： 2007年04月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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