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J-GLOBAL ID：200902232406509346   整理番号：08A0778067

光学活性な置換基を持つポリ(フェニレンエチニレン)膜の合成とそれらポリマーの不斉らせん構造

著者 (9件)： 井上真 (新潟大 大学院) ,  寺口昌宏 (新潟大 大学院) ,  寺口昌宏 (新潟大 超域研) ,  波多野慎悟 (新潟大 超域研) ,  波多野慎悟 (新潟大 VBL) ,  青木俊樹 (新潟大 大学院) ,  青木俊樹 (新潟大 超域研) ,  青木俊樹 (新潟大 VBL) ,  金子隆司 (新潟大 超域研)
資料名： 高分子学会北陸支部研究発表講演会講演要旨集  (日本化学会関東支部・高分子学会北陸支部合同大会講演要旨集)
巻： 55th  ページ： 36  発行年： 2006年11月20日 
JST資料番号： L2349A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光学活性高分子 ,  *ポリフェニレンエチニレン ,  高分子薄膜 ,  *ヘリックス構造 ,  脱保護基 ,  *不斉反応 ,  *薄膜成長 ,  アセチレン化合物 ,  円偏光二色スペクトル ,  芳香族ヨウ素化合物 ,  脂環式化合物

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： 3,5-ジエチニル安息香酸メンチル ,  3,5-ジエチニル-1-[(2,6,6-トリメチルビシクロ[3.1.1]ヘプタン-2-イル)ジメチルシリル]ベンゼン

タイトルに関連する用語 (4件)： 光学活性 ,  置換基 ,  ポリマー ,  らせん構造