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J-GLOBAL ID：200902232975829570   整理番号：09A0044129

Alパッド上への無電解NiめっきのためのMOSFETsの特性に対するプラズマ洗浄条件の及ぼす影響

Effects of plasma cleaning conditions on the characteristics of MOSFETs for electroless Ni plating on Al pads

著者 (5件)： IKEDA A. (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAJIWARA K. (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KIMIYA Y. (Yoshitama Surface Finishing Co. Ltd., Miyazaki, JPN) ,  FUKUNAGA Y. (Yoshitama Surface Finishing Co. Ltd., Miyazaki, JPN) ,  KUROKI Y. (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 30th  ページ： 101-102  発行年： 2008年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *放電洗浄 ,  *MOSFET ,  アルミニウム ,  *無電解めっき ,  *ニッケル
準シソーラス用語： *プラズマ洗浄

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： Al ,  パッド ,  無電解Niめっき ,  プラズマ洗浄