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J-GLOBAL ID：200902234515602740   整理番号：06A0651109

最終フォトマスクの平坦性へのペリクルの影響

Influence of the pellicle on final photomask flatness

著者 (5件)： WISTROM Richard (IBM Systems and Technol. Group, VT, USA) ,  HAYDEN Dennis (IBM Systems and Technol. Group, VT, USA) ,  RACETTE Kenneth (IBM Systems and Technol. Group, VT, USA) ,  BARRETT Monica (IBM Systems and Technol. Group, VT, USA) ,  WATTS Andrew (IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6283  号： Pt.2  ページ： 628326.1-628326.7  発行年： 2006年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最終フォトマスク平坦性の決定で重要な役割を演じるフォトマスク...

シソーラス用語： *フォトマスク ,...
準シソーラス用語： 時間的変化 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトマスク ,  平坦性 ,  ペリクル