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J-GLOBAL ID：200902234990088171   整理番号：04A0002874

ECRプラズマスパッタリング法による高品質チタン酸ストロンチウム基薄膜の作製

Preparation of high quality strontium titanate based thin films by ECR plasma sputtering

著者 (4件)： MIYAKE S (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  BABA S (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NIINO A (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NUMATA K (Kanagawa High Technol. Foundation (KTF), Kanagawa, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 169/170  ページ： 27-31  発行年： 2003年06月02日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： mirror-confinement型のECR(electr...

シソーラス用語： スパッタリング ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： ECRプラズマ ,  スパッタリング法 ,  高品質 ,  チタン酸ストロンチウム ,  薄膜 ,  作製