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J-GLOBAL ID：200902236222246569   整理番号：08A0264064

中性子非弾性散乱法によるカゴ状物質R₃Pd₂₀Si₆(R=Ce,Pr)の結晶場励起 II

著者 (10件)： 北澤英明 (物質・材料研究機構) ,  DOENNI Andreas (物質・材料研究機構) ,  MIHALIK Matus (物質・材料研究機構) ,  松田雅昌 (日本原子力研究開発機構) ,  金子耕士 (日本原子力研究開発機構) ,  目時直人 (日本原子力研究開発機構) ,  加倉井和久 (日本原子力研究開発機構) ,  小林陽樹 (新潟大 大学院) ,  根本祐一 (新潟大 大学院) ,  後藤輝孝 (新潟大 大学院)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 63  号： 1 第3分冊  ページ： 545  発行年： 2008年02月29日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *セリウム含有合金 ,  パラジウム合金 ,  プラセオジム含有合金 ,  ケイ素含有合金 ,  *結晶場 ,  *中性子散乱 ,  非弾性散乱 ,  スペクトル線帰属 ,  磁化特性

分類 (1件)： 結晶中の局在電子構造  (BM02090U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 中性子非弾性散乱 ,  物質 ,  Pr ,  結晶場 ,  励起