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J-GLOBAL ID：200902236860054596   整理番号：05A0648203

光脱炭酸を利用した新規光塩基発生剤の調製と光反応性材料への応用

著者 (6件)： 有光晃二 (東京理大 理工) ,  久島歩 (東京理大 理工) ,  沼本啓良 (東京理大 理工) ,  郡司天博 (東京理大 理工) ,  阿部芳首 (東京理大 理工) ,  市村国宏 (東邦大 理)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 54  号： 1 Disk1  ページ： 2J20  発行年： 2005年05月10日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 芳香族ケトン ,...

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分類 (2件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (1件)： ケトプロフェン

タイトルに関連する用語 (5件)： 脱炭酸 ,  光塩基発生剤 ,  調製 ,  光反応性材料 ,  応用