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J-GLOBAL ID：200902238264083352   整理番号：04A0787597

テクスチャ識別のためのマスクパターンによる特徴抽出法

Feature Extraction for Texture Classification Using Mask Patterns

著者 (2件)： 豊田崇弘 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  長谷川修 (東京工大 像情報工学研究施設)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 104  号： 290(PRMU2004 54-75)  ページ： 77-84  発行年： 2004年09月10日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マスクパターンによるテクスチャ識別のための特徴抽出法を提案す...

シソーラス用語： *パターン形成 ,...
準シソーラス用語： マスクパターン ,...

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分類 (1件)： パターン認識  (JE07000S)

タイトルに関連する用語 (3件)： テクスチャ識別 ,  マスクパターン ,  特徴抽出法