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J-GLOBAL ID：200902239409622083   整理番号：07A0441988

塩化物イオンを含む酸性水溶液中,Si含有合金表面から発生する水素のSECM観察

著者 (4件)： 伏見公志 (北大 大学院工学研究科) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院工学研究科) ,  大谷良行 (古河スカイ 技研) ,  兒島洋一 (北大 大学院工学研究科)
資料名： 材料と環境講演集  (Proceedings of JSCE Materials and Environments)
巻： 2007  ページ： 455-458  発行年： 2007年04月25日 
JST資料番号： S0520C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： アニオン ,...
準シソーラス用語： 陰極還元

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分類 (1件)： 腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： 塩化物イオン ,  酸性水溶液 ,  Si含有合金 ,  水素 ,  観察