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J-GLOBAL ID：200902240599758731   整理番号：08A0069419

光・電子材料 半導体加工技術により作製した金属ナノ構造による新しいフォトニック材料

著者 (2件)： 上野貢生 (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 未来材料  (Expected Materials for the Future)
巻： 8  号： 1  ページ： 14-20  発行年： 2008年01月10日 
JST資料番号： L4328A  ISSN： 1346-0986  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 金属ナノ構造は,光電場と強く結合し,光を微小空間に閉じ込める...

シソーラス用語： *表面プラズモン ,...
準シソーラス用語： 工作精度 ,...

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分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子材料 ,  半導体加工 ,  作製 ,  金属ナノ構造 ,  フォト