ナノメートル領域におけるソフトリソグラフィー造型及び印刷用に設計した光硬化性ポリジメチルシロキサン化学

CHOI K M; ROGERS J A

文献

J-GLOBAL ID：200902240728780862 整理番号：03A0321713

ナノメートル領域におけるソフトリソグラフィー造型及び印刷用に設計した光硬化性ポリジメチルシロキサン化学

A Photocurable Poly(dimethylsiloxane) Chemistry Designed for Soft Lithographic Molding and Printing in the Nanometer Regime.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=03A0321713&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0321713&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0254A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 125 号： 14 ページ： 4060-4061 発行年： 2003年04月09日
JST資料番号： C0254A ISSN： 0002-7863 CODEN： JACSAT 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ソフトリソグラフィーへの応用に適した改質光硬化性ポリジメチル...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0321713&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0254A") }}

その他の高分子の反応

, , , , ,

前のページに戻る